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宇晶股份:目前我公司的高精密双面研磨设备化学机械抛光设备都已在国内知名半导体碳化硅加工厂验证使用。

  同花顺300033)金融研究中心11月24日讯,有投资者向宇晶股份002943)提问, 董秘:您好!查看有关资料得知,半导体硅片制造需要研磨设备、CMP 抛光设备,请问公司的研磨设备、 抛光设备是否可以用于该领域?

  公司回答表示,尊敬的投资者您好,感谢您对公司的关注,目前我公司的高精密双面研磨设备,化学机械抛光设备都已在国内知名半导体碳化硅加工厂验证使用。

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